GenISys 株式会社/GenISysの求人・企業情報
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企業情報
直接採用 GenISys 株式会社/GenISys
| 社名 | GenISys 株式会社/GenISys |
|---|---|
| 本社国籍 | ドイツ |
| 所在国 | 日本 |
| 会社紹介 |
 GenISys社では、マイクロ・ナノテクノロジー技術開発・生産のためのリソグラフィデータ処理およびシミュレーション用ソフトウエアを提供しています。 これらのツールにより、ICプロトタイプ製作、マスク作成、DFM開発、MEMSなどに使われるリソグラフィ技術のための設計データ処理、プロセスモデリング、補正、最適化などにおいてイージーオペレーションなワールドクラスのソフトウエア・エンジニアリングを提供しています。 電子ビームによる直接描画およびマスク作成のための、GenISysのデータ処理および近接効果補正技術は、装置のリミットを極限まで押し進めます。 2005年の創業以来、GenISysは電子ビーム描画装置用ソフトウエアの分野において、グローバル・マーケット・リーダーとなりそのマーケットとアプリケーションを拡大しています。 GenISysはカスタマー・サービスにフォーカスしており、カスタマーのニーズに対応するための素早いアップリケーションサポート、ソフトウエア開発を提供しています。GenISysでは "some of the most complex problems in the world" に挑戦し、あなたのタレントを発揮するチャンスに出会うことができます。 Based in Munich, Germany, with offices in Tokyo Japan and San Francisco California, GenISys develops, markets and supports flexible, high-performance software solutions for the optimization of micro- and nano fabrication processes. Addressing the market for lithography and inspection, GenISys combines deep technical expertise in layout data processing, process modeling, correction and optimization with world class software engineering and a strong focus on ease of use for applications in IC prototyping, mask production, DfM development and MEMS. For e-beam direct write and mask manufacturing, our data preparation and proximity effect correction software helps to push the limits of e-Beam technology. Since its foundation in 2005, GenISys has become a global market leader in the field of e-beam lithography software and is expanding to related markets and applications. As a company focused on customer service, GenISys delivers fast, highly dedicated support for application and development of needed functionality to meet demanding customer needs. At GenISys you will find challenge, variety, and a chance to apply your individual talents to some of the most complex problems in the world. |
| 業種 | ソフトウェアベンダー |
| 所在地 | 〒167-0051 東京都杉並区荻窪5-11-17 第２和光ビル2F |
| 代表者 | 竹村 等 |
| 設立年 | 2008 |
| 資本金 | 150万円 |
| 従業員数 | 3 |
| 事業内容 |
GenISys GmbH （ミュンヘン、ドイツ）の日本・アジア担当の現地法人。 ナノテクノロジー開発に必須である微細パターン露光技術に付加価値を提供する先進ソフトウェアの開発と販売を展開する。 |
| オフィスへのアクセス | 中央線、地下鉄丸ノ内線 荻窪駅より徒歩5分 |
| URL | http://genisys-gmbh.com/web/ |
