【世界シェアNo1】半導体製造前工程のプロセス開発[37338-189] | 株式会社A・ヒューマン/A・HUMAN INC.の求人詳細

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更新日 2018-06-29
掲載開始日 2018-06-25
ジョブコード: 37338-189

【世界シェアNo1】半導体製造前工程のプロセス開発[37338-189]

  • ★★ スタッフレベル
  • 転勤無し
この求人の
取扱い会社
人材紹介
株式会社A・ヒューマン/A・HUMAN INC.
企業名 会社名非公開
職種
株式会社A・ヒューマン/A・HUMAN INC.
電機(電気/電子/半導体) - 生産技術
業種 産業機器・重電・設備メーカー
勤務地 アジア 日本 滋賀県

仕事内容 1.デバイスノードの微細化に伴い、半導体洗浄装置・コーターデベロッパーにおける次世代向け微細化プロセス技術開発
2.各製造工程(受入・製造・出荷・立ち上げ)毎の汚染管理、汚染低減・汚染除去を行う生産技術の確立と標準化及び装置管理
のいずれかをお任せします。

具体的には、
 ・要素技術開発
 ・プロセス技術開発
 ・各種メーカー・サプライヤーとの共働開発
 ・化学分析、物理分析、各種測定業務
 ・工程内汚染物質分析、汚染管理と維持技術開発、標準化
 ・量産設備設計、装置管理
などとなります。
業界最高水準の微細化プロセス技術・微細化装置技術・清浄度技術を確立するため、社内外の技術者と協働しながら、自らが率先して業務に就いて頂きます。

【募集背景】
半導体業界は今後一層発展していく業界の一つですが、同社の半導体洗浄装置は世界シェアNo1を誇っております。
昨今ではプロセスの微細化によって10nmを割り込む精度での洗浄が求められております。
上記要求に応えるため、フォトリソ工程/洗浄工程のプロセス開発者を増員して対応します。
企業について
(社風など)
当社は、長年培ったエッチングおよびフォトリソグラフィをコア技術に半導体製造装置市場に参入し、ますます重要度が高まる洗浄プロセスで確固たるシェアを築いています。
この他、コーターデベロッパーに代表されるリソグラフィー装置、先端デバイス特性には欠かせぬミリセカンドアニール装置、ナノレベルのレーザーアニール装置などをラインナップに加え、事業の強化を図っています。
また、200mm以下の新規市場に向けた「フロンティアプロジェクト」を推進しており、画像処理技術を含めて当社の既存技術を総合的に応用展開し、積極的な製品、技術開発を進めています。
勤務時間 8:30~17:15(フレックスタイム制あり)
応募条件 ・大卒以上(大学院優遇)
・下記(1)または(2)のご経験
(1)半導体前工程に対するプロセス知見・経験
(2)コータ/デベロッパや半導体洗浄装置の構成部品に対する知見・経験
・英語スキル:現地にて顧客(台湾/韓国等)との英会話が必要です。
(ビジネス初級レベルの英語力(TOIEC 450以上))

・募集年齢(年齢制限理由):30才以上 35才以下
(年齢制限理由:特定年齢層の特定職種の労働者が相当程度少ないため)
英語能力 日常会話(TOEIC 475-730)
日本語能力 ネイティヴレベル
年収 日本・円 500万円 〜 800万円   
給与に関する説明 【年収】 500万円以上 800万円以下

【福利厚生】
社宅、独身寮、住宅取得支援制度、厚生社宅制度、財形貯蓄制度、従業員持株会、互助会制度など

【社会保険】
健康・厚生年金・労災・雇用保険
休日 【休日】年間休日124日(完全週休2日制:土日・祝日)、年末年始、夏季連続休日有、GW など

【有給休暇】入社年度より最大23日、AM/PM分割取得可能、リフレッシュ休暇制度、リラックスファイブ有給休暇制度 など
契約期間 【雇用形態】 正社員 ※試用期間3ヶ月

最寄り駅 【勤務地】 滋賀県 ※転勤なし
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